蚀刻(etching)又称为光化学蚀刻,是把材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术,可分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两种类型。通常所指蚀刻也称光化学蚀刻(photochemical etching),指通过曝光制版、显影后,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。
传统的蚀刻加工方法生产效率低下,污染极为严重,制作而成的蚀刻网有花边、毛刺、砂眼等质量方面的问题。数印通蚀刻优版的出现,完全解决了传统工艺所存在的缺陷,采用的喷墨印刷软件和喷墨印刷设备,完全避免了环境污染的问题,不仅提高了生产效率,还了蚀刻网的质量。
蚀刻技术其特征在于:
1.)蚀刻速率(安培/分钟)
2.)选择性:S=蚀刻速率材料1/蚀刻速率据说材料2对材料1比对材料2具有S的选择性。
3.)各向异性:A=1-横向蚀刻速率/垂直蚀刻速率
4.)欠切:如果0.8 um的线是由使用1 um的光致抗蚀剂线作为掩模的蚀刻产生的,那么对于该特定的蚀刻,据说工艺偏差是0.1um。