化学组分上的均匀性: 就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。
在镀膜领域,镀膜后薄膜样品的厚度是影响薄膜功用的一个重要因素。因此,当点评某薄膜样品的功用时,需求检测该薄膜样品不同厚度下的功用。对于真空镀膜的情形,这往往需求进行多次试样的制备。而这样多次制备样品存在两个问题:,不同次生长的样品,仪器的状况不同,以至于影响薄膜样品功用的因素可能不仅仅是厚度;其次,真空镀膜试验装取样品需求重新进行真空的获得,十分耗时。增加了出产和检测的本钱。
在检漏过程中,为了做好检漏工作,有必要注意一些问题。
,检查虚漏是否仍为实漏,因为工件数据加热后会出现不同程度的气体,有可能被误认为是从外部流出的气体,这就是虚漏,要消除这种情况。
第二,测试真空室的气密性功能,确保气密性功能符合要求。
三、检查漏孔的大小、形状、方位、漏速,编制解决方案并实施。
四、得出检测仪器检漏的检出率和灵敏度,要检查刻度的泄漏情况,防止一些泄漏孔被疏忽,提高泄漏检测的准确性。
五、掌握检漏仪的反应时间和消除时间,把握好时间,检漏仪操作到位,时间少,检漏功能一定差,时间长,浪费检漏气和人工电。
六、还要防止泄漏堵塞,有时由于操作失误,在检漏过程中,一些灰尘或液体将泄漏堵塞,认为孔的方向没有泄漏,但当由于内外压差进展或其他原因导致泄漏孔未堵塞时,泄漏仍在那里。