来源:深圳市光明区鑫诚物资回收经营部 时间:2025-01-18 02:52:05 [举报]
在紫外光照射下,吸收了光能量的光引发剂分解成游离基引发单体进行光聚合反应,形成不溶于稀碱的溶液的体型分子。要使每种干膜聚合效果好,就有一个佳的曝光量。从光能量的定义公式可知,总曝光量E是光强度I和曝光时间T的乘积。若光强度I不变,则曝光时间T就是直接影响曝光总量的重要因素。曝光不足时,由于聚合不,在显影过程中,胶膜溶胀变软,导致线条不清晰甚至膜层脱落,造成膜与铜结合不良;若曝光过度,会造成显影困难,也会在电镀过程中产生起翘剥离,形成渗镀。所以,解决的工艺措施就是严格控制曝光时间,每种类型的干膜在起用时应按工艺要求进行测量。如采用瑞士顿21级光楔表,级差0.15,以控制6-9级为宜。
显影液的浓度、温度和显影时间都是非常重要的。如果浓度太高或温度太高,显影液会过于强烈地溶解光敏胶层,导致电路图案变形或失真。如果浓度太低或温度太低,显影液则无法有效地溶解未曝光的部分,导致电路图案不清晰或不完整。因此,显影液的浓度、温度和显影时间严格控制,以确保 PCB 的质量和稳定性。
调整刷辊压力
毛刷干净柔韧,无毛刺,不划伤版面
根据测试结果调节压力,网点还原
压力尽可能小,压力大版材难通过,实地和小网点容易损失
毛刷辊旋转方向与版材前进方向相逆,有利于显影效果
根据版材厚度范围调节,显影宽容度
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