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3. 开维持泵、真空计电源,真空计档位置V1位置,等待其值小于10后,再进入下一步操作。约需5分钟。
4. 开机械泵、予抽,开涡轮分子泵电源、启动,真空计开关换到V2位置,抽到小于2为止,约需20分钟。
5. 观察涡轮分子泵读数到达250以后,关予抽,开前机和
高阀继续抽真空,抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头,观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子枪电源。 1. 总电源。
2. 同时开电子枪控制Ⅰ和电子枪控制Ⅱ电源:按电子枪控制Ⅰ电源、延时开关,延时、电源及保护灯亮,三分钟后延时及保护灯灭,若后门未关好或水流继电器有故障,保护灯会常亮。
3. 开高压,高压会达到10KV以上,调节束流可到200mA左右,帘栅为20V/100mA,灯丝电流1.2A,偏转电流在1~1.7之间摆动。 1. 关高真空表头、关分子泵。
2. 待分子泵显示到50时,依次关高阀、前级、机械泵,这期间约需40分钟。
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离子镀膜,一个精密的工艺过程,其核心是离子溅射镀膜。对于导电靶,偏压电源扮演了关键角色,采用直流电场的精密调控,确保阴极表面的电子被加速,进而轰击气体分子,引发电离现象。这个过程中,电子被电场驱动,形成雪崩效应,直至气体被击穿,形成稳定的电离电流,进而驱动离子加速,撞击靶材,将原子释放并沉积在样品表面,形成所需涂层。
偏压电源,就像荧光灯中的核心组件,它通过高频转换电路,以单极性脉冲方式输出。电源电压的精细调整通过改变高频转换电路的输入电压实现,稳压性能高达1%。这种设计允许在工艺所需电压的同时,通过调整脉冲宽度来控制工件的加热效果,适用于各种涂层需求,从工具保护到装饰美化。
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抽空时间相同,而真空度偏低,这时候关闭主阀,如真空计指针很快下降,多数情况是真空室漏,应先查出漏点。如真空计指针下降很慢,多数情况是真空机组抽气能力不够,查找真空泵及阀门看哪里出现泄漏,或是扩散泵油污染或氧化;或前级管路密封不好,泵油不足;或泵油乳化,轴封漏油等。漏--分内漏和外漏,较大的漏点可以用火焰法,利用气流能使火焰偏离的原理,先抽上真空,比如用蜡烛或打火机在可疑点附近逐步查寻,会发现火苗向漏点偏移,则可找到漏点。查找小漏和微漏:利用在高真空状态下电离管对某些气体反应敏感来检漏,比如丙酮或乙醇,用医用注射器向可疑的地方喷射丙酮或乙醇,喷到漏点时,电离计的指针会有明显摆动。用这种方法检漏一定要有耐心,一定要等到电离计的示值稳定了--也就是真空机组的抽气能力和漏率平衡了,然后再喷射。好是反复几次,确认漏点。内漏多发生在有水冷套的设备上,查外漏没有发现疑点,但是却有以下现象:机械泵的抽速明显偏低、真空计示值低、机械泵油很快乳化、真空室内的铁基零部件明显锈蚀。具备以上条件基本可以确定有内漏。
离子渗氮:可以在辉光放电条件下,将N、C等元素渗入到零件和模具内部、明显提高表面硬度、抗疲劳等性能和耐腐蚀性,相对于总体渗氮处理时间短、湿度低、变形小、表面性能可控,可用于各种钢铁及钛合金结构件,各种模具和各种不锈钢制品。
等离子体化学气相沉积设备与技术(离子渗氮,氮碳共渗)
等离子体化学气相沉积(PCVD)是一种新型的脉冲直流等离子体辅助沉积硬质镀膜新技术。在一定压力、温度的真空炉内,加入适当比例的不同工作气体,在脉冲电压的作用下,通过辉光放电产生均匀等离子体。在不同工艺条件下,可在被处理工件表面形成各种硬质膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多层复合膜等,显微硬度高达HV2000--2500。
真空镀膜加工中冷却设备需要提供智能、稳定的冷冻水,来确保真空镀膜工艺中电镀液的温度恒定,所以会选择使用水冷式冷水机来作为真空镀膜加工冷却设备。
一 真空镀膜加工中冷却设备冷水机的作用
真空镀膜加工过程中,真空镀膜机作为主要设备,工作过程中有高频电流过程,电导会在反复过程中产生大量热能并且集聚在一起,需要冷却设备及时地进行冷却,避免设备部件损坏,影响使用寿命;另外,真空镀膜电镀液需要根据电镀产品不同进行温度调节,并保持相对恒温,反复镀膜会造成镀液温度升高,同样需要冷却设备来准确地控制和稳定电镀液的温度。在工业生产控温中,根据真空镀膜加工的实际需求,选用相应规格的冷水机设备来进行、稳定的温度控制调节是经济有效的解决方案。
真空蒸镀金属薄膜怎么样?这个问题不能一概而论,要根据您的具体情况进行分析。这里简单介绍一下真空蒸镀金属薄膜的特点,供您参考。镀铝薄膜与铝箔复合材料相比具有以下特点:(1)大大减少了用铝量,节省了能源和材料,降低了成本,复合用铝箔厚度多为7~9pm,而镀铝薄膜的铝层厚度约为0.05n左右,其耗铝量约为铝箔的1/140~1/180,且生产速度可高达450m/min。(2)具有优良的耐折性和良好的韧性,很少出现针孔和裂口,无揉曲龟裂现象,因此对气体、水蒸汽、气味、光线等的阻隔性提高。(3)具有的金属光泽,光反射率达到97%;且可以通过涂料
需要镀膜的被称为基片,镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且终沉积在基片表面,经历成膜过程,终形成薄膜。
1)所需设备:CCZK-1350-OGS光学电子枪镀膜设备
2)获得膜层:多层化合物膜层,超硬防水膜层,防指纹膜层,彩色膜层
3)涂装流程:玻璃产品的前处理清洗----烘箱烘干-----真空镀膜----成品包装
4)基本配置:
腔体结构:D1350MM*H1350MM 立式单开门
腔体材质:304不锈钢
转动方式:公自转结合,穹顶行星式转架
蒸发电源:SCR可控硅+大功率蒸发变压器
蒸发阻源:3组
电 子 枪:E型电子枪,磁偏转270°
坩 埚:可旋转多孔位坩埚
1)所需设备:CCZK-1850SFL连续式磁控镀膜流水线
2) 获得膜层:一层或多层金属,合金或金属化合物膜层
3)涂装流程: 玻璃产品的前处理清洗过程---进片上线台---粗抽室---过渡室---精抽室---缓冲室---镀膜室---后缓冲---精抽室---过渡室---粗抽室---出片下线台---淋漆流水线(如果需要)---包装成品
4)基本配置:
1.腔体结构:采用的卧式连续磁控镀膜流水线,配备前后粗抽室,前后过渡室,前后精抽室,前后缓冲室,彩镀室。
2.腔体材质:碳钢
3.靶材设计:采用新型旋极靶材以及平面阴极靶材。
4.电源配置:配备大功率中频或直流磁控溅射电源
5.电气控制:生产线采用PLC全过程控制,配备工业计算机人机交互系统,快速的节拍设计。
6.人机对话:控制系统能实现人、机对话,及时对生产过程进行必要干预。运行过程有报警提示和故障显示,故障显示能提示操作人员正确的操作和排故。
7.传动系统:滚轴传动,变频可调
8.可镀膜玻璃或平板,尺寸可定制
9. 生产线安采用了的插板阀进行腔室隔断,可以实现有效隔断,稳定工艺气体。
10.生产线采用了均匀进气管结构设计,气流注入均匀平缓;
11.泵抽系统:扩散泵组或分子泵组+机械泵+罗茨泵
5)需求配套设施:
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