来源:深圳市光明区鑫诚物资回收经营部 时间:2024-09-09 03:09:26 [举报]
在紫外光照射下,吸收了光能量的光引发剂分解成游离基引发单体进行光聚合反应,形成不溶于稀碱的溶液的体型分子。要使每种干膜聚合效果好,就有一个佳的曝光量。从光能量的定义公式可知,总曝光量E是光强度I和曝光时间T的乘积。若光强度I不变,则曝光时间T就是直接影响曝光总量的重要因素。曝光不足时,由于聚合不,在显影过程中,胶膜溶胀变软,导致线条不清晰甚至膜层脱落,造成膜与铜结合不良;若曝光过度,会造成显影困难,也会在电镀过程中产生起翘剥离,形成渗镀。所以,解决的工艺措施就是严格控制曝光时间,每种类型的干膜在起用时应按工艺要求进行测量。如采用瑞士顿21级光楔表,级差0.15,以控制6-9级为宜。
使已曝光的感光材料显出可见影像的过程。所以显影紧接曝光工序之后,使PCB板的板面清晰地显现电路。制作中阻焊曝光、显影工序,是将丝网印刷后经阻焊的PCB板,用重氮菲林覆盖在焊盘之上,使其在曝光工序时不受紫外线照射,而将焊盘内铜箔露出,以便在热风整平时铅锡。
显影是指用还原剂把软片或印版上经过曝光形成的潜影显现出来的过程。PS版的显影则是在印版图文显现出来的同时,获得满足印刷要求的印刷版面和版面性能。显影机是将晒制好的印版通过半自动和全自动的程序将显影、冲洗、涂胶、烘干等工序一次性部分或全部完成的印刷处理设备。
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