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真空度低解决方法：清洁真空室内的送铝、蒸镀装置、冷却系统、放卷、卷取装置及导辊；检查抽真空系统；降低环境湿度。 ②薄膜释放气体 解决方法：薄膜预干燥；延长抽真空时间。 ③喷铝过多解决方法：提高车速；降低蒸发舟电流；降低送铝速度。 ④蒸发舟内有杂质 解决方法：清洁蒸发舟及热屏蔽板。 ⑤蒸发舟老化 解决方法：更换蒸发舟。 补充： 以上不知道有没有帮助。镀铝发雾的问题我就不知道了，不好意思。 追问： 不好意思，我没有说你才疏学浅的意思- -#，我意思说就像发黄的原因有：1, 真空度过低;延长抽真空时间 2, 镀膜时有其他放气源影响镀膜效果,比如夹具或胶纸 3，镀膜时间过长；喷铝过多 4，镀膜电流过高

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离子镀膜，一个精密的工艺过程，其核心是离子溅射镀膜。对于导电靶，偏压电源扮演了关键角色，采用直流电场的精密调控，确保阴极表面的电子被加速，进而轰击气体分子，引发电离现象。这个过程中，电子被电场驱动，形成雪崩效应，直至气体被击穿，形成稳定的电离电流，进而驱动离子加速，撞击靶材，将原子释放并沉积在样品表面，形成所需涂层。

偏压电源，就像荧光灯中的核心组件，它通过高频转换电路，以单极性脉冲方式输出。电源电压的精细调整通过改变高频转换电路的输入电压实现，稳压性能高达1%。这种设计允许在工艺所需电压的同时，通过调整脉冲宽度来控制工件的加热效果，适用于各种涂层需求，从工具保护到装饰美化。

离子渗氮：可以在辉光放电条件下，将N、C等元素渗入到零件和模具内部、明显提高表面硬度、抗疲劳等性能和耐腐蚀性，相对于总体渗氮处理时间短、湿度低、变形小、表面性能可控，可用于各种钢铁及钛合金结构件，各种模具和各种不锈钢制品。
等离子体化学气相沉积设备与技术(离子渗氮，氮碳共渗)
等离子体化学气相沉积（PCVD）是一种新型的脉冲直流等离子体辅助沉积硬质镀膜新技术。在一定压力、温度的真空炉内，加入适当比例的不同工作气体，在脉冲电压的作用下，通过辉光放电产生均匀等离子体。在不同工艺条件下，可在被处理工件表面形成各种硬质膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多层复合膜等，显微硬度高达HV2000--2500。

真空镀膜加工中冷却设备需要提供智能、稳定的冷冻水，来确保真空镀膜工艺中电镀液的温度恒定，所以会选择使用水冷式冷水机来作为真空镀膜加工冷却设备。

一 真空镀膜加工中冷却设备冷水机的作用

真空镀膜加工过程中，真空镀膜机作为主要设备，工作过程中有高频电流过程，电导会在反复过程中产生大量热能并且集聚在一起，需要冷却设备及时地进行冷却，避免设备部件损坏，影响使用寿命；另外，真空镀膜电镀液需要根据电镀产品不同进行温度调节，并保持相对恒温，反复镀膜会造成镀液温度升高，同样需要冷却设备来准确地控制和稳定电镀液的温度。在工业生产控温中，根据真空镀膜加工的实际需求，选用相应规格的冷水机设备来进行、稳定的温度控制调节是经济有效的解决方案。

真空蒸镀金属薄膜怎么样？这个问题不能一概而论，要根据您的具体情况进行分析。这里简单介绍一下真空蒸镀金属薄膜的特点，供您参考。镀铝薄膜与铝箔复合材料相比具有以下特点：（1）大大减少了用铝量，节省了能源和材料，降低了成本，复合用铝箔厚度多为7～9pm，而镀铝薄膜的铝层厚度约为0．05n左右，其耗铝量约为铝箔的1/140～1/180，且生产速度可高达450m/min。（2）具有优良的耐折性和良好的韧性，很少出现针孔和裂口，无揉曲龟裂现象，因此对气体、水蒸汽、气味、光线等的阻隔性提高。（3）具有的金属光泽，光反射率达到97%；且可以通过涂料

需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。