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化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。
溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射），晶向（外沿）生长的控制也比较一般。
在镀膜领域，镀膜后薄膜样品的厚度是影响薄膜功用的一个重要因素。因此，当点评某薄膜样品的功用时，需求检测该薄膜样品不同厚度下的功用。对于真空镀膜的情形，这往往需求进行多次试样的制备。而这样多次制备样品存在两个问题：，不同次生长的样品，仪器的状况不同，以至于影响薄膜样品功用的因素可能不仅仅是厚度;其次，真空镀膜试验装取样品需求重新进行真空的获得，十分耗时。增加了出产和检测的本钱。
众所周知，真空镀膜机的运行状态将直接影响镀膜产品的质量。为了更好地运行，有必要对真空镀膜机进行维护。那么，你知道真空镀膜机维护的意义吗? 设备的日常维护就是发现生产中的异常现象，尽早解决。如果发现机械泵的油量减少，应该添加。不要认为应该定期换油。否则，在进行维护时，泵的转子可能会严重磨损。比如有些轴承工件被夹住，就要更换轴承;否则坏了，问题就严重了，可能会出现电机烧毁等问题。
真空镀膜机的污染物可以定义为“任何一种无用的物质或能量”。多弧离子镀膜机根据污染物的物理状态可分为固态、气态和液态，污染物以薄膜或颗粒的形式存在。就其化学特性而言，它可以是离子态或共价态，无机态或有机态。
真空是支撑真空镀膜机运行的环境，尤其是需要高真空度的设备。通常，我们需要达到高的真空度，而抽气系统的功能是不可缺少的。但是除了抽气系统之外，真空镀膜设备的操作还有一点，就是工件的脱气。有些工件内部有大量气体和水分，在设备加热时会排入真空室，降低真空度。更有甚者，有些气体含有有毒成分，直接破坏真空室内部机械结构，导致设备无法正常运行。
