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离子渗氮:可以在辉光放电条件下,将N、C等元素渗入到零件和模具内部、明显提高表面硬度、抗疲劳等性能和耐腐蚀性,相对于总体渗氮处理时间短、湿度低、变形小、表面性能可控,可用于各种钢铁及钛合金结构件,各种模具和各种不锈钢制品。
等离子体化学气相沉积设备与技术(离子渗氮,氮碳共渗)
等离子体化学气相沉积(PCVD)是一种新型的脉冲直流等离子体辅助沉积硬质镀膜新技术。在一定压力、温度的真空炉内,加入适当比例的不同工作气体,在脉冲电压的作用下,通过辉光放电产生均匀等离子体。在不同工艺条件下,可在被处理工件表面形成各种硬质膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多层复合膜等,显微硬度高达HV2000--2500。
装饰真空镀膜设备是蒸发式镀膜装置,在真空室中利用电阻加热法,将紧贴在电阻丝上的金属丝(铝丝)熔融汽化,汽化了金属分子沉积于基片上,而获得光滑高反射率的膜层,达到装饰美化物品表面的目的。
该设备具有:结构合理,膜层均匀、成膜质量好、抽速大、工作同期短、生产、操作方便,能耗低性能稳定等优点。广泛应用于汽车、音响、各类小家电、电脑、钟表、玩具、手机、反光杯、化妆品、玩具等行业。
可加工的材料包括:ABS、PS、PP、PC、PVC、尼龙、金属、波丽、玻璃、陶瓷、TPU等。
镀制效果有:普通电镀亮面、哑面(半哑、全哑)、工艺电镀皱纹、拉丝、雨滴、七彩等;镀制颜色有:金、银、红、蓝、绿、紫、七彩等等。
1)所需设备:CCZK-1850SFL连续式磁控镀膜流水线
2) 获得膜层:一层或多层金属,合金或金属化合物膜层
3)涂装流程: 玻璃产品的前处理清洗过程---进片上线台---粗抽室---过渡室---精抽室---缓冲室---镀膜室---后缓冲---精抽室---过渡室---粗抽室---出片下线台---淋漆流水线(如果需要)---包装成品
4)基本配置:
1.腔体结构:采用的卧式连续磁控镀膜流水线,配备前后粗抽室,前后过渡室,前后精抽室,前后缓冲室,彩镀室。
2.腔体材质:碳钢
3.靶材设计:采用新型旋极靶材以及平面阴极靶材。
4.电源配置:配备大功率中频或直流磁控溅射电源
5.电气控制:生产线采用PLC全过程控制,配备工业计算机人机交互系统,快速的节拍设计。
6.人机对话:控制系统能实现人、机对话,及时对生产过程进行必要干预。运行过程有报警提示和故障显示,故障显示能提示操作人员正确的操作和排故。
7.传动系统:滚轴传动,变频可调
8.可镀膜玻璃或平板,尺寸可定制
9. 生产线安采用了的插板阀进行腔室隔断,可以实现有效隔断,稳定工艺气体。
10.生产线采用了均匀进气管结构设计,气流注入均匀平缓;
11.泵抽系统:扩散泵组或分子泵组+机械泵+罗茨泵
5)需求配套设施:
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