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在盛有电镀液的镀槽中，经过清理和特殊预处理的待镀件作为阴极，用镀覆金属制成阳极，两极分别与直流电源的负极和正极联接。电镀液由含有镀覆金属的化合物、导电的盐类、缓冲剂、pH调节剂和添加剂等的水溶液组成。通电后，电镀液中的金属离子，在电位差的作用下移动到阴极上形成镀层。阳极的金属形成金属离子进入电镀液，以保持被镀覆的金属离子的浓度[1]。在有些情况下，如镀铬，是采用铅、铅锑合金制成的不溶性阳极，它只起传递电子、导通电流的作用。电解液中的铬离子浓度，需依靠定期地向镀液中加入铬化合物来维持。电镀时，阳极材料的质量、电镀液的成分、温度、电流密度、通电时间、搅拌强度、析出的杂质、电源波形等都会影响镀层的质量，需要适时进行控制。
如今，各种电镀设备和配置基本上都是以单一镀槽为单元的配置.其中除了滚镀应用了机械操作外，其他既可以是手工生产装置，也可以是自动生产线上可用的装置。 这种自动线会有很多传感器监测各种参数，特别是电镀工艺参数，比如电流密度、温度、pH值等，都应该在正常范围内波动,当变动值超过规定的工艺范围，被监测到的讯号会转化为相应的设备动作，向镀液内补充相应的原材料.可以实现全自动补加的成分包括主盐溶液(将主盐先溶解在一定量的蒸馏水中，由控制阀在接受到相关指令后再排除)、辅助盐溶液、pH调节剂、光亮剂、添加剂等。如果是采用阳极篮，则阳极材料要选用角状或球状阳极，这时也可以实现阳极材料的自动补加。
电镀电源电镀电源是电镀生产过程中重要的辅助设备。国内大量应用的还是硅整流器和可控硅整流器，分为调压器调压、磁饱和电抗器调压及可控硅凋压。电镀用硅整流器和可控硅整流器都是低压大电流，一般为12V(镀铬选用18V)，电流从100A至20000A都有可控硅调压的硅整流器只有在负荷较高时渡形良好稳流稳压、稳定电流密度的电镀电源也正在推广应用。
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