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化学组分上的均匀性: 就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。
溅射镀膜又分为很多种,总体看,与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld,组分均匀性容易保持,而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射),晶向(外沿)生长的控制也比较一般。
真空镀膜机应在真空过程前对真空材料进行清洗,去除工件或系统材料表面的污染物;车灯镀膜机零部件表面的清洁也是很有必要的,因为污染物引起的气体和蒸气源不仅会使真空系统无法获得所需的真空度。而且由于污染物的存在,还会影响真空部件连接处的强度和密封性能。
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