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深圳宝安真空镀膜机回收厂家报价

更新时间:2024-09-16 13:01:36 编号:e22uvr4oqb27f8
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刘生

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蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 

对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且终沉积在基片表面,经历成膜过程,终形成薄膜。

在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。 

溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld,组分均匀性容易保持,而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射),晶向(外沿)生长的控制也比较一般。

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抽空时间相同,而真空度偏低,这时候关闭主阀,如真空计指针很快下降,多数情况是真空室漏,应先查出漏点。如真空计指针下降很慢,多数情况是真空机组抽气能力不够,查找真空泵及阀门看哪里出现泄漏,或是扩散泵油污染或氧化;或前级管路密封不好,泵油不足;或泵油乳化,轴封漏油等。漏--分内漏和外漏,较大的漏点可以用火焰法,利用气流能使火焰偏离的原理,先抽上真空,比如用蜡烛或打火机在可疑点附近逐步查寻,会发现火苗向漏点偏移,则可找到漏点。查找小漏和微漏:利用在高真空状态下电离管对某些气体反应敏感来检漏,比如丙酮或乙醇,用医用注射器向可疑的地方喷射丙酮或乙醇,喷到漏点时,电离计的指针会有明显摆动。用这种方法检漏一定要有耐心,一定要等到电离计的示值稳定了--也就是真空机组的抽气能力和漏率平衡了,然后再喷射。好是反复几次,确认漏点。内漏多发生在有水冷套的设备上,查外漏没有发现疑点,但是却有以下现象:机械泵的抽速明显偏低、真空计示值低、机械泵油很快乳化、真空室内的铁基零部件明显锈蚀。具备以上条件基本可以确定有内漏。

真空镀膜加工中冷却设备需要提供智能、稳定的冷冻水,来确保真空镀膜工艺中电镀液的温度恒定,所以会选择使用水冷式冷水机来作为真空镀膜加工冷却设备。

一 真空镀膜加工中冷却设备冷水机的作用

真空镀膜加工过程中,真空镀膜机作为主要设备,工作过程中有高频电流过程,电导会在反复过程中产生大量热能并且集聚在一起,需要冷却设备及时地进行冷却,避免设备部件损坏,影响使用寿命;另外,真空镀膜电镀液需要根据电镀产品不同进行温度调节,并保持相对恒温,反复镀膜会造成镀液温度升高,同样需要冷却设备来准确地控制和稳定电镀液的温度。在工业生产控温中,根据真空镀膜加工的实际需求,选用相应规格的冷水机设备来进行、稳定的温度控制调节是经济有效的解决方案。

利摘要显示,本申请关于一种真空镀膜自动加料装置,涉及真空镀膜领域。该真空镀膜自动加料装置包括支架,支架上安装有滑动机构,滑动机构上安装有驱动机构以及加料机构,驱动机构的动力输出端与加料机构传动连接;加料机构的上方还安装有储料罐,储料罐将粉料输送至加料机构内,加料机构与外部管式炉的进料口接驳;其中,储料罐上还安装有搅拌机构,搅拌机构将储料罐内的粉料均匀的输送至加料机构内。实现了在CVD过程中,粉末状态的蒸发材料(如派瑞林)少量、连续进入管式炉以进行后续的加热、升华、裂解工艺,既满足了蒸发材料的用量,又达到了实时动态调整进料量的目的,提升了镀膜效果,并实现了一种以上的蒸发材料复合镀膜的工艺需求。

1)所需设备:CCZK-1850SFL连续式磁控镀膜流水线
  2) 获得膜层:一层或多层金属,合金或金属化合物膜层
  3)涂装流程: 玻璃产品的前处理清洗过程---进片上线台---粗抽室---过渡室---精抽室---缓冲室---镀膜室---后缓冲---精抽室---过渡室---粗抽室---出片下线台---淋漆流水线(如果需要)---包装成品
  4)基本配置:
  1.腔体结构:采用的卧式连续磁控镀膜流水线,配备前后粗抽室,前后过渡室,前后精抽室,前后缓冲室,彩镀室。
  2.腔体材质:碳钢
  3.靶材设计:采用新型旋极靶材以及平面阴极靶材。
  4.电源配置:配备大功率中频或直流磁控溅射电源
  5.电气控制:生产线采用PLC全过程控制,配备工业计算机人机交互系统,快速的节拍设计。
  6.人机对话:控制系统能实现人、机对话,及时对生产过程进行必要干预。运行过程有报警提示和故障显示,故障显示能提示操作人员正确的操作和排故。
  7.传动系统:滚轴传动,变频可调
  8.可镀膜玻璃或平板,尺寸可定制
  9. 生产线安采用了的插板阀进行腔室隔断,可以实现有效隔断,稳定工艺气体。
  10.生产线采用了均匀进气管结构设计,气流注入均匀平缓;
  11.泵抽系统:扩散泵组或分子泵组+机械泵+罗茨泵
  5)需求配套设施:

直接的镀膜控制方法是石英晶体微量平衡法(QCM),这种仪器可以直接驱动蒸发源,通过PID控制循环驱动挡板,保持蒸发速率。只要将仪器与系统控制软件相连接,它就可以控制整个的镀膜过程。但是(QCM)的度是有限的,部分原因是由于它监控的是被镀膜的质量而不是其光学厚度。
    此外虽然QCM在较低温度下非常稳定,但温度较高时,它会变得对温度非常敏感。在长时间的加热过程中,很难阻止传感器跌入这个敏感区域,从而对膜层造成重大误差。
    光学监控是高精密镀膜的的监控方式,这是因为它可以更地控制膜层厚度(如果运用得当)。度的改进源于很多因素,但根本的原因是对光学厚度的监控。
    OPTIMAL SWA-I-05单波长光学监控系统,是采用间接测控,结合汪博士开发的光学监控软件,有效提高光学反应对膜厚度变化灵敏度的理论和方法来减少误差,提供了反馈或传输的选择模式和大范围的监测波长。特别适合于各种膜厚的镀膜监控包括非规整膜监控。

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